擴(kuò)散爐是半導(dǎo)體生產(chǎn)線前工序的重要工藝設(shè)備之一，用于大規(guī)模集成電路、分立器件、電力電子、光電器件和光導(dǎo)纖維等行業(yè)的擴(kuò)散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝

   擴(kuò)散/氧化爐是半導(dǎo)體生產(chǎn)線重要工藝，擴(kuò)散是在高溫條件下，利用熱擴(kuò)散原理將雜質(zhì)元素按要求的深度摻入硅襯底中，使其具有特定的濃度分布，達(dá)到改變材料的電學(xué)特性，形成半導(dǎo)體器件結(jié)構(gòu)的目的?？捎糜谥谱鱌N結(jié)或構(gòu)成集成電路中的電阻、電容、二極管和晶體管等器件。氧化是將硅片放置于氧氣或水蒸氣的氛圍中進(jìn)行高溫?zé)崽幚恚诠杵砻嫘纬裳趸さ倪^程，可作為離子注入的阻擋層及注入穿透層、表面鈍化、器件結(jié)構(gòu)的介質(zhì)層等。

擴(kuò)散爐有垂直擴(kuò)散爐（vertical）和水平擴(kuò)散爐（horizontal）兩種類型。

垂直擴(kuò)散爐是石英舟垂直于水平面，更加有利于機(jī)械手傳送硅片，片內(nèi)工藝參數(shù)一致性更好。

水平擴(kuò)散爐是石英舟平行于水平面，一臺可以4個或4個以上的工藝爐管，平均爐管的占地面積更小，片間的工藝參數(shù)較垂直擴(kuò)散爐更好。

擴(kuò)散爐由控制系統(tǒng)、進(jìn)出舟系統(tǒng)、爐體加熱系統(tǒng)和氣體控制系統(tǒng)等組成。

控制部分包括：溫控器、功率部件、超溫保護(hù)部件、系統(tǒng)控制。

系統(tǒng)控制部分有四個獨(dú)立的計算機(jī)控制單元，分別控制每層爐管的推舟、爐溫及氣路部分，是擴(kuò)散/氧化系統(tǒng)的控制中心。

輔助控制系統(tǒng)，包括推舟控制裝置、保護(hù)電路、電路轉(zhuǎn)接控制、三相電源指示燈、照明、凈化及抽風(fēng)開關(guān)等。

         較先進(jìn)的擴(kuò)散爐控制系統(tǒng)均已更新或升級到微機(jī)控制，管機(jī)與主機(jī)間通過串口RS232或網(wǎng)線進(jìn)行通信?？刂葡到y(tǒng)軟件大多基于Windows系統(tǒng)，實用性和可操作性大大提高，能夠?qū)崿F(xiàn)日志記錄，曲線記錄，程序編輯，遠(yuǎn)程控制等多種功能。

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